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       真空腔體是真空鍍膜機中的核心組件之一，它在鍍膜過程中扮演著重要的作用。以下是真空腔體在真空鍍膜機中的幾個主要作用：

       1、創(chuàng)建高真空環(huán)境：真空腔體提供了一個密封的空間，通過抽取空腔內(nèi)的氣體，將腔體內(nèi)部的壓力降低到較低的水平，從而創(chuàng)建高真空環(huán)境。高真空環(huán)境是進行薄膜沉積的基礎(chǔ)，可以避免氣體干擾和雜質(zhì)的存在，保障薄膜的質(zhì)量和均勻性。

       2、隔絕外界干擾：其密封性能能夠有效隔絕外界空氣、濕氣和雜質(zhì)進入，從而避免這些干擾物質(zhì)對鍍膜過程和薄膜質(zhì)量的影響。保持良好的真空度可以保障薄膜的純凈性和穩(wěn)定性。

       3、提供支撐和固定：它通常具有合適的結(jié)構(gòu)和固定裝置，用于支撐和固定待鍍物體。這有利于保障待鍍物體在鍍膜過程中的穩(wěn)定性和均勻性，以及保障薄膜在物體表面的均勻沉積。

       4、安裝和連接其他組件：它通常包括安裝和連接其他關(guān)鍵組件的接口和通道，如泵系統(tǒng)、鍍膜源、監(jiān)測和控制設備等。這些組件通過與真空腔體的連接，共同構(gòu)成完整的真空鍍膜機系統(tǒng)。

       5、提供溫度控制：在一些應用中，它還可以提供溫度控制功能，用于控制待鍍物體或鍍膜源的溫度。通過調(diào)節(jié)溫度，可以影響薄膜的生長速率、晶粒尺寸和結(jié)構(gòu)，以滿足不同的鍍膜要求。